納米混懸液研磨分散機

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cmd2000系列醫藥混懸液研磨分散機具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑微米0.2-2μm,可以確保高速分散乳化的穩定性。該設備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產包括對乳狀液，懸浮液和膠體的均質混合?；鞈乙悍稚⑷榛瘷C由定/轉子系統生的剪切力使得溶質轉移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。并且cmd2000系列各個環節都帶有夾套,處理過程中可對物料進行溫度控制;清洗方便，符合在線清洗和滅菌。 采用膠體磨和分散機的一體化設計相對于膠體磨和分散機的串聯而更具優勢。串聯的話存在時間差，當物料通過膠體磨之后，磨細后物料會出現抱團的現象，經過分散機分散，效果不是很好。而cmd超細研磨分散機的話,物料磨細后,瞬間又通過分散工作組，進行分散,在物料還未抱團之，就進行了分散，一個瞬間作用,效果會好很多。
納米混懸液研磨分散機由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
上海依肯ikn納米混懸液研磨分散機技術參數選型表：
研磨分散機型 號 流量l/h 輸出轉速rpm 線速度m/s 馬達功率kw 出口/入口連接
cmd2000/4 300 9000 23 2.2 dn25/dn15
cmd2000/5 1,000 6000 23 7.5 dn40/dn32
cmd2000/10 3,000 4200 23 22 dn80/dn50
cmd2000/20 8,000 2850 23 37 dn80/dn65
cmd2000/30 20,000 1420 23 55 dn150/dn125
cmd2000/50 60,000 1100 23 110 dn200/dn150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到大允許的10%。
1、表中上限處理量是指介質為"水”的測定數據。
2、處理量取決于物料的粘度,稠度和終產品的要求。
3、如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況,必須提供準確的參數，以便選型和定制。
4、本表的數據因技術改動，定制而不符,正確的參數以提供的實物為準。
5、本系列機型具有短程送料能力，無自吸功能，須選用高位進料;物料粘度或固含高導致不能正常進料和輸送時，須選用壓力或輸送泵進料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。